Productes químics electrònics G4 àcid nítric (químic humit semiconductor)

L'àcid nítric G4 és un àcid inorgànic oxidant fort d'alta-puresa desenvolupat especialment per a la fabricació d'hòsties de semiconductors i processos de microelectrònica avançada. Fabricat mitjançant destil·lació en diverses etapes, purificació ultra-fina i processos d'ompliment d'habitacions netes de classe 1000-, aquest producte controla estrictament els ions metàl·lics traça, les impureses aniòniques i les partícules en l'aire, complint totalment amb els estàndards internacionals de semiconductors SEMI G4.

Serveix com a producte químic humit crític per a la neteja frontal-de semiconductors i el gravat de metalls. Amb una forta capacitat d'oxidació i neteja, elimina de manera eficient els contaminants metàl·lics, els residus orgànics i els micro-defectes superficials de les hòsties de silici. El contingut d'impureses ultra-baix elimina els riscos de contaminació del procés, estabilitza la qualitat de la superfície de les hòsties i millora el rendiment de producció per a la fabricació avançada de xips.

Aparença:Líquid volàtil transparent incolor o lleugerament groc pàl·lid

Nota:Totes les dades de la prova es basen en un COA (Certificat d'anàlisi) específic-per lots.

Neteja de metalls pesats d'hòsties:Eliminar eficaçment els contaminants de metalls pesants com ara ferro, coure, zinc i impureses inorgàniques residuals a les superfícies de les hòsties de silici. La seva forta propietat oxidant garanteix una neteja a fons sense introduir contaminació secundària, complint els requisits de neteja ultra-per als processos avançats d'hòsties.

Gravat de pel·lícula fina metàl·lica:Aplicat per al gravat fi i l'eliminació de diverses pel·lícules fines metàl·liques en la fabricació de semiconductors, amb una taxa de gravat estable i una excel·lent uniformitat, adequada per al processament de patrons de precisió de dispositius microelectrònics.

Formulació de solució de neteja humida composta:S'utilitza per preparar solucions de neteja àcids mixtes per a processos de neteja estàndard RCA de semiconductors, cooperant amb altres productes químics electrònics per eliminar de manera integral residus orgànics, partícules i impureses iòniques.

MEMS i tractament avançat d'embalatge:Adequat per a la neteja de superfícies, l'eliminació d'impureses i el micro-gravat de dispositius MEMS, sensors de semiconductors i components d'embalatge de xips, adaptant-se als estàndards de fabricació microelectrònica d'alta-precisió.

Tipus d'embalatge:Tambor tancat d'HDPE resistent a la corrosió-neteja-, embalatge químic dedicat àcid nítric

Especificació comuna:Tambor petit de 25 kg / 30 kg, bossa IBC resistent a la corrosió de 1000 kg{3}

Entorn d'ompliment:Sala neta de classe 1000, sistema d'ompliment ultra-pur tancat, elimina estrictament la contaminació per partícules secundàries i impureses

Estàndard de segellat:Estructura segellada anti-oxidació, anti{-volàtil i-a prova de fuites, evitant el deteriorament del producte i la contaminació externa

● Emmagatzemar en un magatzem de productes químics corrosius fresc, sec, ventilat i dedicat, mantenir-lo ben tancat, lluny de la llum solar directa, altes temperatures i fonts de calor per evitar la descomposició tèrmica.

● Aïllar estrictament de substàncies combustibles, agents reductors, productes químics alcalins i materials orgànics per evitar reaccions d'oxidació violentes i perills de seguretat.

● Eviteu l'exposició a la llum-a llarg termini per evitar la decoloració i la disminució de la puresa causada per la fotòlisi.

● Vida útil:12 mesos en condicions estàndard d'emmagatzematge segellat i fosc

● L'àcid nítric és fortament corrosiu i s'oxida amb volatilitat. Els operadors han de portar un EPI professional complet: guants resistents a l'àcid-, ulleres de protecció químiques totalment tancades, davantal resistent a la corrosió- i roba de treball protectora.

● Totes les operacions de manipulació, dilució i dosificació s'han de realitzar en una campana de fums certificada; Evitar la inhalació de gasos tòxics volàtils i el contacte directe amb la pell, els ulls i les mucoses.

● Durant la dilució, afegiu lentament àcid nítric a l'aigua desionitzada; No aboqui mai aigua a l'àcid nítric concentrat per evitar esquitxades de líquids i cremades químiques.

● En cas de contacte accidental, vessament o fuites, implementeu l'eliminació d'emergència immediatament d'acord amb els procediments operatius estàndard i les directrius SDS.

● Consulteu el document oficial SDS per obtenir la classificació completa de perills, les normes de transport i les mesures detallades de primers-auxilis.

Cada lot d'àcid nítric G4 es produeix, es purifica i s'inspecciona d'acord amb les especificacions internacionals de la indústria de semiconductors SEMI G4. Cada enviament va acompanyat d'un COA oficial-per lot específic. Tot el procés de producció i d'ompliment adopta un estricte control de la contaminació de la sala neta-i una gestió resistent a l'oxidació-, garantint una puresa ultra-alta, poca impuresa i una consistència de lots estable, satisfent totalment els rigorosos requisits dels processos avançats de fabricació en humit de semiconductors.

Etiquetes populars: productes químics electrònics g4 àcid nítric (químic humit semiconductor), fabricants, proveïdors, fàbrica de productes químics electrònics de la Xina g4 àcid nítric (químic humit semiconductor)