Identificació del producte
|
Item |
Especificació |
|
Nom del producte |
Àcid fluorhídric G4 (HF) |
|
Categoria de producte |
Semiconductor Electrònica Química Humida |
|
Nom químic |
Àcid fluorhídric |
|
Fórmula química |
HF |
|
Núm. CAS |
7664-39-3 |
|
Pes molecular |
20.01 |
|
Número ONU |
1790 |
|
Grau |
SEMI G4 Ultra-Grau electrònic d'alta puresa |
Visió general del producte
L'àcid fluorhídric G4 és un àcid inorgànic basat en fluor de gran -puresa-refinat exclusivament per a la fabricació avançada d'hòsties de semiconductors i la fabricació de microelectrònica. Amb l'adopció de tecnologia de purificació ultra{-multi{4}}ultra-etapa, filtració lliure de corrosió- i tecnologia d'ompliment-classe 1000 d'habitacions netes, el producte presenta un contingut ultra-de traces de metalls, impureses aniòniques i micro-partícules, complint totalment amb els estrictes estàndards internacionals SEMI G4.
Com a producte químic humit de neteja i gravat selectiu bàsic en els processos frontals{0}}de semiconductors, presenta una excel·lent selectivitat de gravat per a les capes d'òxid de silici alhora que causa un dany mínim als substrats de silici i a les pel·lícules de nitrur. El control estricte d'impureses evita eficaçment la micro-contaminació i els defectes de les hòsties, assegurant un alt rendiment i una estabilitat-a llarg termini per als processos avançats de fabricació de xips.
Aparença:Líquid volàtil incolor, clar i transparent
Especificacions tècniques (estàndard SEMI G4)
|
Element de prova |
Especificació |
|
Assaig HF |
48,5 ~ 49,5% en pes |
|
Aparença |
Líquid transparent incolor i transparent |
|
Color (APHA) |
Menor o igual a 5 |
|
Densitat @ 20 graus |
1,15 ~ 1,18 g/cm³ |
|
Residus d'evaporació |
Menor o igual a 30 ppb |
|
Traces de metalls individuals (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Menys o igual a 10 ppb cadascun |
|
Àcid fluosilíc (H₂SiF₆) |
Menys o igual a 10 ppm |
|
Sulfat (SO₄²⁻) |
Menor o igual a 30 ppb |
|
Nitrat (NO₃⁻) |
Menor o igual a 30 ppb |
|
Clorur (Cl⁻) |
Menor o igual a 30 ppb |
|
Partícules superiors o iguals a 0,2 μm |
Menor o igual a 100 unitats/ml |
Nota:Totes les dades de la prova es basen en un COA (Certificat d'anàlisi) específic-per lots.
Aplicacions (procés humit de semiconductors)
Eliminació d'òxid natiu de l'hòstia:Elimina selectivament l'òxid de silici natiu i els contaminants d'òxid residual a les superfícies de les hòsties de silici sense danyar el substrat de silici, optimitzant les condicions de la superfície per als processos de deposició, litografia i gravat.
Gravat selectiu de precisió:S'utilitza per al gravat fi de capes dielèctriques de SiO₂, capes d'òxid de porta i capes de pel·lícula fina en la fabricació d'IC, amb una alta uniformitat de gravat i una excel·lent controlabilitat del procés per garantir una transferència precisa del patró.
Procés de neteja humida RCA:Serveix com a component clau de les solucions de neteja RCA modificades per eliminar micro-partícules, impureses iòniques i residus orgànics a les superfícies de les hòsties, millorant la neteja general de les hòsties.
Procés avançat d'embalatge i MEMS:Aplicat per al tractament de superfícies, el micro-gravat i l'eliminació d'impureses de dispositius MEMS, sensors de semiconductors i components d'embalatge de xips avançats, adaptant-se als requisits de fabricació microelectrònica d'alta-precisió.
Estàndard d'embalatge i farcit
Tipus d'embalatge:Tambor segellat de HDPE-resistent a la corrosió-revestit/nete-de HDPE, embalatge químic HF dedicat
Especificació comuna:Tambor petit de 25 kg / 30 kg, bossa IBC resistent a la corrosió de 1000 kg{3}}
Entorn d'ompliment:Sala neta de classe 1000, sistema de producció i ompliment lliure de corrosió-total, contaminació secundària zero
Estàndard de segellat:Estructura segellada especial anti-volàtil i anti-fuites, evita estrictament la pèrdua de volàtils i la contaminació externa
Emmagatzematge i vida útil
● Emmagatzemar en un magatzem de productes químics de fluor fresc, sec i ventilat, mantenir-lo ben tancat, allunyat de la llum solar directa, altes temperatures i fonts de calor.
● Aïllar estrictament dels productes de vidre, substàncies alcalines, oxidants i materials metàl·lics per evitar la corrosió química i la reacció no vàlida.
● Prohibir l'emmagatzematge obert-a llarg termini per evitar el deteriorament volàtil i la contaminació per absorció d'humitat.
● Vida útil:12 mesos en condicions estàndard d'emmagatzematge segellat
Manipulació i precaucions de seguretat
● L'àcid fluorhídric és altament corrosiu i volàtil. Els operadors han de portar EPI de suport professional: guants resistents al fluor-, ulleres de protecció químiques totalment tancades, davantal resistent a la corrosió- i roba de protecció.
● Totes les operacions s'han de realitzar en campanes professionals; evitar la inhalació de gasos volàtils i el contacte directe amb la pell, els ulls i les mucoses.
● Durant la dilució i la dosificació, afegiu lentament àcid a l'aigua desionitzada; No afegiu mai aigua a l'àcid fluorhídric concentrat per evitar esquitxades i accidents de seguretat.
● S'han d'adoptar immediatament{0}}mesures especials de primers auxilis en cas de contacte o fuites accidentals, i seguir estrictament les directrius d'eliminació d'emergència de la SDS.
● Per obtenir una classificació completa de perills, les normatives de transport i els procediments{0}}de primers auxilis, consulteu el document SDS oficial.
Garantia de qualitat
Cada lot d'àcid fluorhídric G4 es produeix, es purifica i s'inspecciona d'acord amb els estàndards internacionals de semiconductors SEMI G4. Cada enviament s'adjunta amb un COA oficial específic per lot-. Tot el procés de producció i d'ompliment adopta un estricte control de la contaminació de la sala neta i una gestió de processos resistents a la corrosió-, garantint una puresa ultra-i una qualitat estable per complir els estrictes requisits dels processos avançats de fabricació en humit de semiconductors.
Etiquetes populars: productes químics electrònics àcid fluorhídric g4 (químic humit semiconductor), fabricants, proveïdors, fàbrica de productes químics electrònics de la Xina g4 àcid fluorhídric (químic humit semiconductor)

