Identificació del producte
|
Article |
Especificació |
|
Nom del producte |
Àcid clorhídric G4 |
|
Categoria de producte |
Semiconductor Electrònica Química Humida |
|
Nom químic |
Àcid clorhídric |
|
Fórmula química |
HCl |
|
Núm. CAS |
7647-01-0 |
|
Pes molecular |
36.46 |
|
Número ONU |
1789 |
|
Grau |
SEMI G4 Ultra-Grau electrònic d'alta puresa |
Visió general del producte
L'àcid clorhídric G4 és un àcid inorgànic d'alta puresa-purificat especialment per a la fabricació d'hòsties de semiconductors i la fabricació de microelectrònica avançada. Produït mitjançant processos d'ultra-purificació, filtració de baixa-contaminació i-ompliment de sales netes, aquest producte inclou ions metàl·lics ultra-traces, impureses aniòniques i micro-partícules, que compleixen totalment les especificacions de la indústria SEMI G4.
És una substància química humida bàsica per als processos frontals-de semiconductors, eliminant eficaçment els contaminants metàl·lics, els residus iònics i les impureses d'òxid a les superfícies de les hòsties. El control estricte d'impureses elimina els riscos de micro-contaminació, garantint un alt rendiment i un rendiment estable per als processos avançats de fabricació de xips.
Aparença:Líquid incolor, transparent i clar amb una lleugera olor picant
Especificacions tècniques (estàndard SEMI G4)
|
Element de prova |
Especificació |
|
Assaig de HCl |
36,0 ~ 38,0% en pes |
|
Aparença |
Líquid transparent incolor i transparent |
|
Color (APHA) |
Menor o igual a 10 |
|
Densitat @ 20 graus |
1,18 ~ 1,19 g/cm³ |
|
Residus d'evaporació |
Menor o igual a 50 ppb |
|
Traces de metalls individuals (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr) |
Menys o igual a 10 ppb cadascun |
|
Sulfat (SO₄²⁻) |
Menor o igual a 50 ppb |
|
Nitrat (NO₃⁻) |
Menor o igual a 50 ppb |
|
Clor lliure (Cl₂) |
Menor o igual a 50 ppb |
|
Fosfat (PO₄³⁻) |
Menor o igual a 30 ppb |
|
Partícules superiors o iguals a 0,2 μm |
Menor o igual a 100 unitats/ml |
Nota:Totes les dades de la prova es basen en un COA (Certificat d'anàlisi) específic-per lots.
Aplicacions (procés humit de semiconductors)
Neteja de superfícies d'hòsties:Elimineu els ions metàl·lics residuals, els contaminants inorgànics i les capes d'òxid superficial de les hòsties de silici, milloreu la neteja de la superfície de les hòsties per als processos de gravat i deposició posteriors.
Gravat humit de semiconductors:S'utilitza per al micro-gravat de precisió de materials basats en silici- i substrats de semiconductors compostos amb una velocitat de gravat estable i efecte de processament uniforme.
Preparació de la solució del procés:Formule solucions mixtes de neteja i gravat per al procés de neteja RCA, que compleixin els requisits avançats de fabricació de la part frontal{0}}de semiconductors.
Procés avançat d'embalatge i MEMS:Tractament de superfícies i eliminació d'impureses per a dispositius MEMS, embalatge de xips i processament de components microelectrònics.
Estàndard d'embalatge i farcit
Tipus d'embalatge:Tambor segellat de HDPE de grau-neteig/bolsa neta IBC
Especificació comuna:Tambor petit de 25 kg / 30 kg, borsa IBC de 1000 kg
Entorn d'ompliment:Sala neta de classe 1000, contaminació secundària zero, introducció de partícules i impureses estrictament controlada
Estàndard de segellat:Envasos segellats resistents a l'àcid-professionals, anti-volatilització i anti-fuites
Emmagatzematge i vida útil
● Emmagatzemar en un magatzem de productes químics fresc, sec, ventilat i dedicat, mantenir-lo ben tancat, lluny de la llum solar directa, altes temperatures i fonts de calor.
● Aïllar de substàncies alcalines, oxidants i productes químics orgànics per evitar reaccions químiques i contaminació.
● Eviteu estrictament la col·locació oberta-a llarg termini per evitar el deteriorament volàtil i l'absorció d'impureses.
● Vida útil: 12 mesos en condicions estàndard d'emmagatzematge segellat
Manipulació i precaucions de seguretat
● L'àcid clorhídric és corrosiu i volàtil. Els operadors han de portar EPI complet: guants resistents a l'àcid-, ulleres de protecció químiques, davantal resistent a la corrosió- i roba de protecció.
● Funcionar en ambient ventilat; Evitar la inhalació de gasos volàtils i el contacte directe amb la pell i els ulls.
● Operació de dilució: afegiu lentament àcid a l'aigua, mai afegiu aigua a àcid clorhídric concentrat per evitar esquitxades i lesions.
● En cas de contacte o fuites, seguiu les directrius d'emergència de la SDS per a la neteja i eliminació oportunes.
● Per a la classificació completa de perills, les normes de transport i les mesures de primers auxilis-, consulteu el document SDS oficial.
Garantia de qualitat
Cada lot d'àcid clorhídric G4 es produeix i s'inspecciona d'acord amb els estàndards internacionals SEMI G4. Cada enviament s'acompanya d'un COA de lot oficial. Tots els processos de producció, purificació i ompliment adopten un estricte control de la contaminació de la-habitació neta per garantir una qualitat de producte estable i constant per a aplicacions de fabricació de semiconductors-de gamma alta.
Especificació de l'àcid clorhídric
|
Nom del producte |
Grau |
Massa molecular relativa |
Fórmula molecular |
|
Àcid clorhídric |
Química electrònica G4 |
36.46 |
HCl |
|
Inspeccioneu els elements |
Especificacions |
Inspeccioneu els elements |
Especificacions |
|
Aparença |
Solució aquosa transparent incolora de clorur d'hidrogen |
Níquel (Ni), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Assaig (HCl), % |
36.0~38.0 |
Cúpric (Cu), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Cromaticitat, unitats Hazen |
Menor o igual a 10 |
Zinc (Zn), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Residus de combustió (a base de sulfat), ppm |
Menor o igual a 3 |
Gal·li (Ga), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
clor disponible lliure (Cl), ppb |
Menor o igual a 100 |
Germani (Ge), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Amoni (NH₄), ppb |
Menor o igual a 100 |
Arsènic (As), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Sulfat (SO₄), ppb |
Menor o igual a 100 |
Stantium (Sr), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Sulfits (SO₂), ppb |
Menor o igual a 100 |
Zirconi (Zr), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Fosfat (PO₄), ppb |
Menor o igual a 100 |
Niobi (Nb), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Liti (Li), ppt |
Menor o igual a 100 |
Molibdè (Mo), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Berili (Be), ppt |
Menor o igual a 100 |
Plata (Ag), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Bor (B), ppt |
Menor o igual a 100 |
Cadmi (Cd), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Sodi (Na), ppt |
Menor o igual a 100 |
Estany (Sn), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Magnesi (Mg), ppt |
Menor o igual a 100 |
Bari (Ba), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Alumini (Al), ppt |
Menor o igual a 100 |
Tàntal (Ta), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Potassi (K), ppt |
Menor o igual a 100 |
Or (Au), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Calci (Ca), ppt |
Menor o igual a 100 |
Tal·li (Tl), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Titani (Ti), ppt |
Menor o igual a 100 |
Plom (Pb), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Vanadi (V), ppt |
Menor o igual a 100 |
Bismut (Bi), ppt |
Menor o igual a 100 |
|
Crom (Cr), ppt |
Menor o igual a 100 |
Partícules (més o igual a 0,2 μm), pcs/mL |
Menor o igual a 300 |
|
Manganès (Mn), ppt |
Menor o igual a 100 |
Partícules (més o igual a 0,3 μm), pcs/mL |
Menor o igual a 100 |
|
Ferro (Fe), ppt |
Menor o igual a 100 |
Partícules (més o igual a 0,5 μm), pcs/mL |
Menor o igual a 5 |
|
Cobalt (Co), ppt |
Menor o igual a 100 |
Final de l'informe |
- |
Etiquetes populars: productes químics electrònics àcid clorhídric g4, productes químics electrònics de la Xina àcid clorhídric g4 fabricants, proveïdors, fàbrica

